レジスト被塗布体の加熱装置およびそのモニタリング方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：板垣孝夫 , 森本義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-016421
公開番号（公開出願番号）：特開2005-209970
出願日： 2004年01月26日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

【課題】レジスト被塗布体に加熱処理を施す際に、処理を施す加熱部内の雰囲気の変動を迅速に検知することができるレジスト被塗布体の加熱装置およびそのモニタリング方法を提供する。【解決手段】レジストが塗布された半導体ウェーハ4を内部に配置して加熱する加熱部1aと、加熱された半導体ウェーハ4の周囲の気体8aを加熱部1aの外部に排出するパージ用ポンプ7と、排出される気体8aの排気流量を計測する排気流量計11と、排気流量計11により計測した測定値をデータとして出力するデータロガー12とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レジストが塗布されたレジスト被塗布体を内部に配置して加熱する加熱手段と、加熱された前記レジスト被塗布体の周囲の気体を前記加熱手段の外部に排出する手段と、前記排出される気体の排気流量を計測する計測手段と、前記計測手段により計測した測定値をデータとして出力するデータ処理手段とを有することを特徴とするレジスト被塗布体の加熱装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 , B05C9/14 , B05D3/00 , B05D3/14

FI (4件)：

H01L21/30 567 , B05C9/14 , B05D3/00 D , B05D3/14

Fターム (16件)：

4D075BB26Z , 4D075BB36Z , 4D075BB99Z , 4D075DB04 , 4D075DC19 , 4D075EA19 , 4D075EA45 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042BA13 , 4F042BA19 , 4F042BA25 , 4F042DB17 , 5F046KA04 , 5F046KA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平4-127516号公報

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