特許

J-GLOBAL ID：200903076900132273

粉体処理装置

発明者： 長尾 正光 ,  高橋 正明
出願人/特許権者： 株式会社奈良機械製作所
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-211116
公開番号（公開出願番号）：特開平6-055053
出願日： 1992年08月07日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】【目的】 組立、分解作業が容易で、製造コストが安く、従来の循環回路を有するものと遜色のない粉体処理装置を提供する。【構成】 本発明は、衝撃室内に、衝撃ピンを周設した回転盤を配置すると共に、該衝撃ピンの最外周軌道面に沿い、かつそれに対して一定の空間を置いて衝突リングを配置した粉体処理装置において、前記衝撃室内の回転盤の前面に処理すべき粉体の循環空間を設け、該循環空間が、衝撃ピンの回転軸方向の幅をxとし、該衝撃ピンが設けられた側の回転盤の側面と、該回転盤の側面に対向する衝撃室内壁との間に形成される衝撃室の幅をyとしたとき、その比x/yが0.2〜0.8となるように構成したことを特徴とする粉体処理装置である。

請求項（抜粋）：

衝撃室内に、衝撃ピンを周設した回転盤を配置すると共に、該衝撃ピンの最外周軌道面に沿い、かつそれに対して一定の空間を置いて衝突リングを配置した粉体処理装置において、前記衝撃室内の回転盤の前面に処理すべき粉体の循環空間を設け、該循環空間が、衝撃ピンの回転軸方向の幅をxとし、該衝撃ピンが設けられた側の回転盤の側面と、該回転盤の側面に対向する衝撃室内壁との間に形成される衝撃室の幅をyとしたとき、その比x/yが0.2〜0.8となるように構成したことを特徴とする粉体処理装置。

IPC (5件)：

B01J 2/00 ,  B01J 2/16 ,  B29B 9/16 ,  C08J 3/12 CET ,  C08J 3/12 CFG