特許

J-GLOBAL ID：200903076901948730

基板の搬送機構

発明者： 吉村 利隆
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-084894
公開番号（公開出願番号）：特開2005-272041
出願日： 2004年03月23日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

【課題】基板製造工程における搬送作業に関し、搬送機構のダウンサイズ、コストダウンを図るとともに、基板表面に傷をつけず、ゴミ付着を生じさせず、正確に基板を位置決めしてから支持台へ搭載する。【解決手段】描画装置10の描画テーブル30にローラ41〜48を設け、テーブルの支持面30S上に多数の空気孔ARを形成する。ローラ41、42とともにローラ43、44を支持面上に配置し、支持面から圧縮されたエアを吹き出す。基板SWがコンベア70により運ばれる基板SWが浮いた状態で描画テーブルに進入すると、ローラ42、44の駆動により基板を搬送方向に沿って所定の位置まで移動させる。ゲージ測定部62、64、66により基板の位置ずれを測定し、基板の傾きを解消するように、対応するローラを所定方向へ回転させる。空気孔を介して基板と支持面間を減圧させ、基板を支持面へ搭載させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

搬送されてくるパターン形成用基板を支持台の支持面へ位置決めして搭載可能な搬送機構であって、 前記支持面から所定の高さの位置を通って前記支持台へ進入してくる前記基板に対し、前記支持面から前記基板へ向けて気体を吹き付けることにより前記基板を前記支持面から浮かせた状態で保持する浮揚手段と、 前記基板を浮いた状態で基板両側面から付勢し、搬送方向に沿って所定位置まで案内する案内手段と、 定められた搭載位置に基づく前記基板の傾きに関する位置ずれを、前記基板の浮いた状態で検出する位置ずれ検出手段と、 前記基板の位置ずれが生じている場合、位置ずれを解消する方向へ前記基板が浮いた状態でヨーイングするように、前記基板の側面を付勢する位置ずれ修正手段と、 前記基板と前記支持面との間の気体の流れを制御することにより、前記基板を浮いた状態から前記支持面へ載せる搭載手段と を備えたことを特徴とする搬送機構。

IPC (3件)：

B65G49/06 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

FI (4件)：

B65G49/06 Z ,  G03F9/00 A ,  H01L21/68 A ,  H01L21/68 F

Fターム (40件)：

2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097DB20 ,  2H097KA03 ,  2H097KA29 ,  2H097KA32 ,  2H097KA36 ,  2H097LA11 ,  5F031CA04 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA53 ,  5F031HA14 ,  5F031HA34 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031JA06 ,  5F031JA08 ,  5F031JA17 ,  5F031JA22 ,  5F031JA27 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA36 ,  5F031KA01 ,  5F031KA10 ,  5F031KA12 ,  5F031KA15 ,  5F031LA03 ,  5F031LA08 ,  5F031LA09 ,  5F031LA15 ,  5F031MA13 ,  5F031MA27 ,  5F031PA16 ,  5F031PA20 ,  5F031PA23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板リフト機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-310208   出願人：旭光学工業株式会社
• 描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-298393   出願人：旭光学工業株式会社