特許

J-GLOBAL ID：200903076914335410

透明導電膜の製造方法及び透明導電膜

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288271
公開番号（公開出願番号）：特開2000-123658
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】安価な塗布法で、繰り返し塗布することなく低抵抗で膜強度が十分な透明導電膜を製造し得る方法、及び安価な塗布法で製造され、低い抵抗値を有する透明導電膜を提供すること。【解決手段】(a)透明導電膜を構成する導電性金属酸化物微粒子を含有する塗布液を透明支持体上に塗布する工程、又は(a')導電性金属酸化物微粒子を形成し得る金属アルコキシド及び金属塩から選択される少なくとも1種を含有する塗布液を透明基板上に塗布する工程、及び(b)前工程で形成された塗布被膜にマイクロ波を照射する工程を含む透明導電膜の製造方法が提供される。

請求項（抜粋）：

(a)透明導電膜を構成する導電性金属酸化物微粒子を含有する塗布液を透明支持体上に塗布する工程、及び(b)該(a)工程で形成された塗布被膜にマイクロ波を照射する工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (3件)：

H01B 13/00 503 ,  C03C 17/23 ,  H01B 5/14

FI (3件)：

H01B 13/00 503 B ,  C03C 17/23 ,  H01B 5/14 A

Fターム (16件)：

4G059AA01 ,  4G059AC12 ,  4G059EA01 ,  4G059EA03 ,  4G059EA18 ,  4G059EB05 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G323BA02 ,  5G323BA04 ,  5G323BA05 ,  5G323BB01 ,  5G323BB02 ,  5G323BB06 ,  5G323BC03