特許
J-GLOBAL ID：200903076915354094
射影リソグラフィー光学系
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113727
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090602
出願日： 1997年05月01日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】軟X線等よりも長い波長で動作し、全反射光学デザインを用いたリソグラフィー射影系において、反射表面の数に厳しい制限がなく、利用可能なレーザー光源で、かつ、新型でない反射表面を用いる。【解決手段】スペクトルの深紫外領域から真空紫外領域の間で動作し、全反射光学配置を用いて、半導体ウェハー上へリソグラフィーマスクの縮小像を射影する射影リソグラフィー系である。この全反射光学配置は、6〜8の反射表面を有し、各反射表面は非球面である。この反射表面は、共通光軸に沿って配置され、光がリソグラフィーマスクから半導体ウェハーへ進む際に光の経路と干渉しないように配置される。
請求項（抜粋）：
射影リソグラフィーにおいて用いる光学系であって、リソグラフィーマスク(28)からの像が露出波長を用いて半導体ウェハー(30)上に射影され、a)前記リソグラフィーマスク(28)と前記半導体ウェハー(30)の間に配置された少なくとも6個の反射表面(12〜26)を有し、この各反射表面は、非球面であることを特徴とする光学系。
IPC (4件)：
G02B 17/06
, G02B 13/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G02B 17/06
, G02B 13/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
