特許

J-GLOBAL ID：200903076940855618

ロール装置及び真空成膜装置

発明者： 林 弘志 ,  天野 俊二 ,  平塚 亮一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-148054
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336479
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】 メインロールの冷媒として非絶縁性の冷媒を使用できる真空成膜装置を提供する。【解決手段】 本真空成膜装置は、成膜チャンバ内にイオンソースを備え、メインロールの回転に応じて走行するフィルム上にスパッタ法、CVD法、蒸着法等によりイオン種を投射して薄膜を成膜する装置である。本装置は、真空槽12内に長手方向中心軸の周りに回転する金属製円筒体として設けられ、導電膜と、導電膜上に成膜された表面膜と、導電膜の下に成膜された絶縁膜との積層膜64を円筒体の外周面に有し、積層膜上にフィルムを密着させて走行させるようにしたメインロール62と、導電膜に電圧を印加する電圧印加機構78、80、82、84、86と、メインロールの外周面に対面し、イオン種を投射してフィルム上に薄膜を成膜するイオンソースと、メインロールに非絶縁性冷媒を供給してメインロールを冷却する冷凍機38とを備えている。

請求項（抜粋）：

長手方向中心軸の周りに回転する円筒体として形成され、円筒体の外周面上に順次に成膜された、少なくとも絶縁膜、導電膜及び表面膜の積層膜を有し、積層膜上にフィルムを接触させて走行させるロールと、前記導電膜に電圧を印加する電圧印加機構とを備えることを特徴とするロール装置。

IPC (3件)：

C23C 14/56 ,  B65G 49/00 ,  C23C 16/44

FI (3件)：

C23C 14/56 A ,  B65G 49/00 A ,  C23C 16/44 F

Fターム (13件)：

4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BC03 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030GA12 ,  4K030KA26 ,  4K030LA01 ,  4K030LA02