特許
J-GLOBAL ID:200903076944956745
光学鏡筒及びそのクリーニング方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-280495
公開番号(公開出願番号):特開2000-090868
出願日: 1998年09月17日
公開日(公表日): 2000年03月31日
要約:
【要約】【課題】 電子線縮小転写装置等において、開口の裏面や下流もクリーニングされ、さらに酸化膜が形成され難く、酸化膜ができても容易に除去できる光学鏡筒及びそのクリーニング方法を提供する。【解決手段】 本発明の光学鏡筒は、電子銃1側から試料室19側にラジカルを流す手段と、試料室19側から電子銃1側にラジカルを流す手段と、を備える。光学鏡筒内のラジカルに触れる部分の表面は白金コーティングされている。また、ラジカルの流れの経路内にある小開口4、6、25、15にラジカルのバイパス通路5、7、26、16が設けられている。さらに、酸化性ラジカルを流してクリーニングした後に水素ラジカルを流すことで酸化膜の除去を行う。
請求項(抜粋):
エネルギ線光源から試料に至る光学系を収容する光学鏡筒であって;光源側から試料室側にラジカルを流す手段と、試料室側から光源側にラジカルを流す手段と、を備えることを特徴とする光学鏡筒。
IPC (4件):
H01J 37/16
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305
, H01L 21/027
FI (4件):
H01J 37/16
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 Z
Fターム (13件):
2H097BA04
, 2H097CA16
, 2H097GB01
, 5C034BB01
, 5C034BB03
, 5C034BB06
, 5C034BB10
, 5C034CC01
, 5C034CC19
, 5F056AA22
, 5F056AA27
, 5F056CB40
, 5F056FA02
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