特許

J-GLOBAL ID：200903076956261696

真空処理装置

発明者： 田口 竜大
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 喜多 俊文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-235774
公開番号（公開出願番号）：特開2003-050085
出願日： 2001年08月03日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 たとえば液晶パネル製造装置における真空処理において、長尺シート状材料に対するスループットを低下することなくかつ真空処理後の前記材料の品質を安定化しかつ向上することが可能な真空処理装置を提供する。【解決手段】 長尺シート状材料が真空処理の行われる処理室2に入る前段に、マイクロ波を利用してワークWを連続的に乾燥させつつ通過走行させる乾燥室Dを設置する。したがって材料が導入されるとマイクロ波がシートに及び真空処理に先立ち前記材料中および表面の水分は迅速に除去される。

請求項（抜粋）：

連続して走行する長尺シート状材料に対して真空処理を施すための真空処理室を備え前記長尺シート状材料を連続的に真空処理室に通過走行させるようにした真空処理装置において、長尺シート状材料が真空処理室を通過する前段にマイクロ波を利用して長尺シート状材料を連続して乾燥させながら通過走行させる連続乾燥手段を設けたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

F26B 3/347 ,  F26B 13/02 ,  F26B 23/08

FI (3件)：

F26B 3/347 ,  F26B 13/02 ,  F26B 23/08 C

Fターム (11件)：

3L113AA02 ,  3L113AB01 ,  3L113AB06 ,  3L113AC08 ,  3L113AC13 ,  3L113AC24 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC64 ,  3L113BA26 ,  3L113DA24