特許

J-GLOBAL ID：200903076957035800

だ液のpH低下を防止する口腔用組成物

発明者： 日下 要 ,  芳川 憲司 ,  橋本 充造 ,  豊嶋 良平 ,  岡田 茂孝
出願人/特許権者： 江崎グリコ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-140998
公開番号（公開出願番号）：特開平8-301742
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月19日
要約：

【要約】【目的】 だ液のpH低下を防止し、う蝕防止に有用な口腔用組成物を収得する。【構成】 ヒスチジン単独又はヒスチジン等と炭酸カルシウムを併用したものを含む口腔用組成物。

請求項（抜粋）：

ヒスチジンを含むことを特徴とするだ液のpH低下を防止する口腔用組成物。

IPC (5件)：

A61K 7/22 ,  A23G 3/00 101 ,  A23G 3/30 ,  A23L 1/305 ,  A61K 7/16

FI (5件)：

A61K 7/22 ,  A23G 3/00 101 ,  A23G 3/30 ,  A23L 1/305 ,  A61K 7/16