特許
J-GLOBAL ID：200903076966919657
金属表面へのダイヤモンド被覆の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-023521
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212428
出願日： 1993年01月20日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：
【要約】【構成】 Pt、Ir、Ru、Rh及びReの中から選ばれた遷移金属の基板上に、メタン1〜5容量%を含む水素ガスを流し、マイクロ波プラズマによる化学蒸着を行うことによりダイヤモンド被覆を形成させる。【効果】 本発明によると、これまでダイヤモンド基板又は窒化ホウ素基板以外では行うことが困難であるとされていたダイヤモンドのエピタキシャル成長を、Pt、Ir、Ru、Rh及びReのような金属上で、しかもスクラッチ処理を必要としないで行うことができる。
請求項（抜粋）：
白金、イリジウム、ルテニウム、ロジウム及びレニウムの中から選ばれた遷移金属の基板上に、メタン1〜5容量%を含む水素ガスを流し、マイクロ波プラズマによる化学蒸着を行うことを特徴とするダイヤモンド被覆の形成方法。
IPC (3件)：
C23C 16/26
, C23C 16/50
, C30B 29/04
