特許

J-GLOBAL ID：200903076972176224

マスクのアライメント方法および露光装置

発明者： 横田 宗泰
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294380
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118768
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 生産性を向上させることのできるマスクのアライメント方法および露光装置を提供することを課題とする。【解決手段】 基準となるプレートアライメント顕微鏡31Yにおいて、基準となるベースライン量を計測し、この基準となるベースライン量と、予め記憶された、基準となるプレートアライメント顕微鏡31Yに対する各他のプレートアライメント顕微鏡31T,31X,31Aとの相対位置関係とから、各プレートアライメント顕微鏡31T,31X,31Aにおけるベースライン量を求め、このようにして求められたベースライン量に基づいて、基板ステージ上に載置されたプレートをレチクルに対して位置合わせする構成とした。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを露光光で照明し、投影光学系を介して基板上に転写する際、該基板を位置決めするアライメントセンサと前記マスクの中心との相対位置関係であるベースライン量を求めて、前記アライメントセンサを用いて前記基板と前記マスクとを位置合わせするアライメント方法において、前記アライメントセンサは複数設けられており、予め所定位置に配置された複数の前記アライメントセンサのうちの1つを基準として、該基準となるアライメントセンサに対する他のアライメントセンサそれぞれの相対位置関係を計測し、前記マスクの中心と前記基準のアライメントセンサとの相対位置である基準のベースライン量を計測し、前記基準となるアライメントセンサに対する前記他のアライメントセンサの相対位置関係と、前記基準のベースライン量の計測結果とに基づいて、前記他のアライメントセンサそれぞれのベースライン量を求め、前記基準のベースライン量と、前記他のアライメントセンサそれぞれのベースライン量とに基づいて、前記マスクと前記基板とを位置合わせすることを特徴とするマスクのアライメント方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 C

Fターム (9件)：

5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC12 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06