特許

J-GLOBAL ID：200903076984491435

プラズマ処理システム内への調整可能なガス注入のための方法及び装置

発明者： ストラング、エリック・ジェイ
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-573060
公開番号（公開出願番号）：特表2003-529926
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2003年10月07日
要約：

【要約】【課題】【解決手段】プラズマ処理システム(10、10’)内の調整可能なガスの注入を提供するための方法及び装置。この装置は、ガス注入マニホルド(50)を有しており、このマニホルドは、加圧可能なプレナムと、調節可能なノズルユニット(250)のアレイ、又は、調節不能なノズルユニット(502、602)のアレイとを有しており、これらのノズルを通って、プレナムからのガスは、プラズマ(41)を収容するプラズマ反応チャンバ(14)の内部領域(41)内に流れ得る。前記調節可能なノズルユニットは、ノズルのボア(166)内に配置されるノズルプラグ(160)を有している。このノズルプラグは、通過するガスの流れを調節するように軸方向に移動可能である。

請求項（抜粋）：

貫通ボア内で移動されたとき、真空チャンバ内への前記貫通ボアを通るガス流を変化させるように、前記貫通ボア内に調節可能に配置されている移動可能なノズルプラグと、前記貫通ボアとを、各々が有し、前記チャンバ内に配置されている複数の調節可能なノズルユニットを具備している、前記チャンバ内へのガス流を調節可能に制御するガス注入マニホルド装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 101 C

Fターム (35件)：

4K030CA04 ,  4K030DA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030FA04 ,  4K030KA30 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004EB04 ,  5F004EB05 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045EE04 ,  5F045EF05 ,  5F045EF08 ,  5F045EF09 ,  5F045EF11 ,  5F045EH05 ,  5F045EH11 ,  5F045EH13