特許

J-GLOBAL ID：200903077002876629

表面分析装置

発明者： 丹羽 直昌
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 塩野入 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-072082
公開番号（公開出願番号）：特開平6-288942
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】【目的】 表面分析装置において、測定条件を変更して画像の撮影を行なう場合でも、短い処理時間によってコントラスト及びブライトネスを設定することができ、また画像の特性に対応して最適なコントラストやブライトネスを設定する。【構成】 入射粒子の照射により試料から放出される検出粒子によって得られる画像により試料の表面分析を行なう表面分析装置において、その表面分析装置の測定条件に対する画像のコントラスト及びブライトネスの較正曲線を記憶装置8に設け、この較正曲線により画像撮影装置5における画像の撮影に最適なコントラスト及びブライトネスの設定を測定条件に応じて行なうよう構成する。

請求項（抜粋）：

入射粒子の照射により試料から放出される検出粒子によって得られる画像により試料の表面分析を行なう表面分析装置において、前記表面分析装置の測定条件に対する前記画像のコントラスト及びブライトネスの較正曲線を記憶する記憶手段と、前記較正曲線を修正する修正手段とを具備し、前記記憶手段は記憶している較正曲線を前記修正手段によって修正した後、再び記憶することによって較正曲線の更新を行うものであり、前記較正曲線により前記画像の撮影に最適なコントラスト及びブライトネスの設定を測定条件に応じて行なうことを特徴とする表面分析装置。