特許
J-GLOBAL ID：200903077010690003
両側でアミド化されたトリフェンジオキサジン染料および新規トリフェンジオキサジン染料の製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-296753
公開番号（公開出願番号）：特開平9-169920
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 両側でアミド化されたトリフェンジオキサジン染料および新規トリフェンジオキサジン染料の製法の提供【解決手段】 両側で対称にまたは非対称にアミド化されたトリフェンジオキサジンを製造する方法において、場合により既に一方の側にアミド化されたトリフェンジオキサジン発色団を還元してロイコ形とし、ロイコ形をアミド化しそして再酸化することを特徴とする方法に関する。この様にして、両側でアミド化された生成物が高い収率および生成物品質で得られる。さらにこの様にして、新規トリフェンジオキサジン染料が製造される。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】〔式中、R1 は水素であるか、ヒドロキシル、C1 〜C4 - アルコキシ、スルファトまたはスルホよりなる群から選ばれた1または2個の置換基により置換されていてもよいC1 〜C4 - アルキルであり、R2 はR1 の意味の一つを有し、Eはスルホ、カルボキシル、C1 〜C4 - アルキルスルホニルまたは残基SO2 Y(式中、YはビニルまたはCH2 CH2 V-式中、Vはヒドロキシルである-)であるか、またはスルファト、ホスファト、チオスルファトまたはハロゲンよりなる群から選ばれた離脱性基であるか、または- SO2 NR3 R4 または- CONR3 R4 (式中、R3 は水素またはフェニルであるか、ヒドロキシル、カルボキシル、スルホ、スルファトまたは残基SO2 Yにより置換されていてもよいC1 〜C4- アルキルであり、R4 はR3 の意味の一つを有するか、またはR3 およびNと共に5- または6- 員複素環式残基-これはN、OおよひSよりなる群から選ばれた1ないし3個の別のヘテロ原子により中断されていてもよい-を形成する)であり、X1 はハロゲン、水素、C1 〜C6 - アルキル、フェニル、フェノキシまたはC1 〜C4 - アルコキシであり、X2 はX1 の意味の一つを有し、V1 は水素、スルホ、メトキシ、メチルまたはハロゲンであり、V2 はV1 の意味の一つを有し、そしてZ1 およびZ2 は同一であるかまたは異なり、アシル残基であるか、非置換の、アルキル化されたまたはアリ-ル化アミノカルボニル残基であるか、スルホニル残基または窒素- 含有ヘテロ芳香族残基である〕で示されるトリフェンジオキサジン化合物を製造する方法において、一般式(2)【化2】(式中、Tは水素、Z1 またはZ2 である)で示される化合物を還元して一般式(3)【化3】で示される化合物を得、この化合物をZ1 および/またはZ2 を含有する反応性誘導体と反応させて一般式(4)【化4】で示される化合物を得、その後この化合物を酸化して一般式(1)で示されるトリフェンジオキサジン化合物を得ることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C09B 62/04
, C07D498/04 111
, C09B 62/503
C09B 62/04 A
, C07D498/04 111
, C09B 62/503 A
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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