特許
J-GLOBAL ID：200903077011951471
高分子電解質複合体の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-208043
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049252
出願日： 1992年08月04日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：
【要約】【目的】 物理的性質に優れ、用途に適した形状に成型加工の容易な高分子電解質複合体を製造する方法。【構成】 繊維、織布、不織布又は膜状材料等の高分子基材に放射線重合を利用してカチオン基を持つモノマー及びアニオン基を持つモノマーを導入することにより高分子電解質複合体を製造する。
請求項（抜粋）：
高分子基材に放射線グラフト重合を利用して、カチオン基とアニオン基を導入する高分子電解質複合体の製造法。
IPC (3件)：
C08J 7/18
, B01J 43/00
, B01J 47/12
