特許
J-GLOBAL ID：200903077014306569
マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜合成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-322997
公開番号（公開出願番号）：特開平5-239655
出願日： 1991年12月06日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【目的】 合成されるダイヤモンド膜の均一化と合成領域の拡大を図る。【構成】 ダイヤモンド膜を合成する基板が内部に置かれた反応室にマイクロ波を導入するためのマイクロ波導入窓の中心を、この反応室の中心と偏心させて設け、基板の置かれた基板台を回転させる構造とする。
請求項（抜粋）：
内部に基板の置かれた反応室に、炭化水素と水素の混合ガス、または必要に応じてこれに他の添加ガスを加えた混合ガスを供給すると共に、上記反応室から該混合ガスを排気しながら任意のガス圧力に設定し、かつ上記反応室内にマイクロ波を導入し、上記混合ガスを励起してプラズマを発生させ、上記基板上にダイヤモンド膜を合成する装置において、上記反応室にマイクロ波を導入するためのマイクロ波導入窓の中心を上記反応室の中心と偏心させて設け、基板の置かれた基板台を回転させる構造とすることを特徴とするマイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド膜合成装置。
IPC (4件)：
C23C 16/50
, C23C 16/26
, C30B 25/02
, C30B 29/04
