特許
J-GLOBAL ID：200903077024809968
ホトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-240021
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092647
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板上に形成されたパターンをウェハー上に転写する際に、ステッパーを改造することなく、高解像で、かつ焦点深度の広い転写を可能とする。【構成】 透明な基板130上にクロム等の遮光体により露光されるべきパターン131が形成されており、パターン131の形成された面と反対の面に凹凸のパターン132及び133を設け、このパターン132及び133により、露光光100の回折光110A及び120Aが斜入射照明光となり、解像度及び焦点深度を向上する。
請求項（抜粋）：
基板と、露光用パターンと、斜入射用パターンとを有し、基板に入射した露光光を所定形状に整形して出射するホトマスクであって、基板は、露光光を透過する透明な基板であり、露光用パターンは、基板の一面に設けられ、露光光を整形する所定形状に形成されたものであり、斜入射用パターンは、基板の他面に設けられ、入射した露光光の回折光を生じさせる周期構造のものであることを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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