特許
J-GLOBAL ID：200903077027953040
ビーム整形プリズムおよび光学系
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
増田 達哉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084166
公開番号（公開出願番号）：特開平6-273687
出願日： 1993年03月18日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【構成】 本発明のビーム整形プリズム4は、所定の頂角をなして対向する入射面41および反射面42を有しており、その構成材料の屈折率と頂角との組み合わせによって、入射面41から入射し、反射面42で反射されて再び入射面41より出射した出射光22の横断面形状がほぼ円形に整形されるように設定されている。ビーム整形プリズム4の反射面42は、例えば光学薄膜の積層体で構成され、ビーム整形プリズム4内における反射前後の光軸21と光軸23とが一致しないように配置されている。【効果】 ビーム整形プリズムを含む光学系の構成を簡素化することができる。
請求項（抜粋）：
レーザー光束の横断面形状を整形するビーム整形プリズムであって、レーザー光束の入射面と、該入射面より入射したレーザー光束を反射する反射面とを有し、前記反射面へのレーザー光束の入射光およびその反射光のそれぞれの光軸が一致しないように用いられることを特徴とするビーム整形プリズム。
IPC (4件)：
G02B 27/00
, G02B 5/04
, G11B 7/135
, G11B 11/10
