特許

J-GLOBAL ID：200903077039825358

縦型熱処理装置

発明者： 菊地 寿 ,  小山 勝彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359753
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176812
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 光学式センサを炉口等からの輻射熱から十分に保護できるようにしてセンサの耐久性の向上および耐熱対策のコストダウンを図る。【解決手段】 下端に炉口5を有する熱処理炉6と、この熱処理炉6の炉口5を開閉する蓋体9と、この蓋体9上に載置され多数の被処理体wを高さ方向に整列支持した支持体10と、蓋体9の開閉および熱処理炉6に対する支持体10の搬入搬出を行う昇降機構12と、蓋体9の位置を検知する光学式センサ19とを備えている。前記炉口等からの輻射熱から前記センサを保護するために、少なくとも上部のセンサ19Aを覆うように保護カバー26を設ける。この保護カバー26は、遮熱板27を複数層に設けると共に外側に断熱材28を設けてなる。

請求項（抜粋）：

下端に炉口を有する熱処理炉と、この熱処理炉の炉口を開閉する蓋体と、この蓋体上に載置され多数の被処理体を高さ方向に整列支持した支持体と、蓋体の開閉および熱処理炉に対する支持体の搬入搬出を行う昇降機構と、蓋体の位置を検知する光学式センサとを備えた縦型熱処理装置において、前記炉口等からの輻射熱から前記センサを保護するために、少なくとも炉口近傍のセンサを覆うように保護カバーを設け、この保護カバーは、遮熱板を複数層に設けると共に外側に断熱材を設けてなることを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

FI (3件)：

H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/324 T

Fターム (9件)：

5F045AA20 ,  5F045AF01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EC02 ,  5F045EK06 ,  5F045EM10 ,  5F045GB04 ,  5F045GB15