特許

J-GLOBAL ID：200903077053898430

干渉フィルタ、波長可変干渉フィルタ及びそれらの製造方法

発明者： 紙透 真一 ,  村田 昭浩 ,  與田 光宏 ,  中村 亮介
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (4件)： 小林 久夫 ,  佐々木 宗治 ,  木村 三朗 ,  大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-189459
公開番号（公開出願番号）：特開2005-024826
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】2つの反射膜間の平行間隔である光学的ギャップを高精度に形成しかつ保持することができる干渉フィルタ、波長可変干渉フィルタおよびそれらの製造方法を提供する。【解決手段】2つの反射膜16、19を所定の平行間隔で対向配置してなる干渉フィルタにおいて、一方の反射膜16をシリコン基板またはSOI基板11にエッチングにより形成された凹部13の底面14に形成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

2つの反射膜を所定の平行間隔で対向配置してなる干渉フィルタにおいて、一方の反射膜をシリコン基板またはSOI基板にエッチングにより形成された凹部の底面に形成したことを特徴とする干渉フィルタ。

IPC (2件)：

G02B5/28 ,  G02B1/02

FI (2件)：

G02B5/28 ,  G02B1/02

Fターム (6件)：

2H048GA04 ,  2H048GA22 ,  2H048GA36 ,  2H048GA48 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62