特許
J-GLOBAL ID:200903077062215605
レジストの現像・リンス方法及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-158928
公開番号(公開出願番号):特開平7-142333
出願日: 1993年06月29日
公開日(公表日): 1995年06月02日
要約:
【要約】【目的】 レジストパターン(レジスト柱)の倒壊現象を防止することにある。【構成】 まず、所定のパターンに露光されたレジスト3を現像液によって現像し、現像液をリンス液によって洗い流す。次に、この上に液化炭酸ガス6を滴下・塗布し、リンス液を液化炭酸ガス6に置換する(図3(e))。そして、この液化炭酸ガス6を冷却して凍結させた後(図3(f))、昇華させることによって、リンス液を除去する(図3(g)、(h))。
請求項(抜粋):
露光されたレジストを現像する工程と、現像後のレジストをリンスする工程と、このレジストに残存するリンス液を除去する工程とを有するレジストの現像・リンス方法において、前記リンス液が除去されて前記レジストが露出する前に、このリンス液を凍結させる工程を実施することを特徴とするレジストの現像・リンス方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/30
, G03F 7/32 501
FI (2件):
H01L 21/30 570
, H01L 21/30 572 B
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