投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258049
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102003
出願日： 1991年10月04日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】半導体リソグラフィ工程で使われる通常のレチクルを投影露光する際、高解像度で大焦点深度が得られるとともに、照度均一性の優れた投影露光装置を得る。【構成】照明光学系内に照明光を分割する光分割光学系と、レチクルに対してフーリエ変換面の偏心した位置に複数の面光源を形成する多面光源形成光学系を配置し、この多光源形成光学系は少なくともロッド型オプティカルインテグレータを有するように構成した。

請求項（抜粋）：

所定のパターンが形成されたレチクルを、照明光学系を通した光源からの照明光で照射し、前記パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に結像する投影露光装置において、前記照明光学系は、前記照明光を分割する光分割光学系と、該光分割光学系によって分割された各光束に対応した複数の面光源を前記レチクルに対するフーリエ面、もしくはその近傍での前記照明光学系の光軸から偏心した複数の位置に形成する多面光源形成光学系と、該多面光源形成光学系による複数の面光源からの光束を前記レチクルへ集光するコンデンサーレンズとを有し、前記多光源形成光学系は、少なくともロッド型オプティカルインテグレータを含むことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 3/00 , G02B 5/04 , G03F 7/20 521

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