特許

J-GLOBAL ID：200903077072530932

フォトマスクブランクスの製造方法

発明者： 坂本 長広 ,  鈴木 浩
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113472
公開番号（公開出願番号）：特開平8-305002
出願日： 1990年02月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【課題】 成膜後、保持具から取り外すときに遮光膜が剥離せず、また透光性基板と遮光膜との間に透明導電膜を設けることなく電荷の蓄積を防止することができるようにする。【解決手段】 保持具30の傾斜支持面44によって透光性基板1の各角部1Aのみを支持する。保持具30は、透光性基板1の周縁部に近接対向するマスク面34を有する。保持具30の下方から透光性基板1の主表面に遮光膜を成膜する。

請求項（抜粋）：

透光性基板の対向主表面のうちいずれか一方の主表面の四つの角部を支持する傾斜支持面と、前記角部以外の周縁部に近接して対向するマスク面とを備えたフォトマスクブランクス用保持具の上に前記透光性基板を載置し、この保持具の下方から遮光膜を付着させることにより、前記透光性基板の前記一方の主表面の前記角部および周縁部を除く略全域に遮光膜を形成することを特徴とするフォトマスクブランクスの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 L ,  G03F 1/14 A ,  H01L 21/30 502 P