特許
J-GLOBAL ID：200903077089376180
セラミック積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高橋 祥泰 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-030009
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234258
出願日： 2002年02月06日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 未焼積層体を充分に脱脂可能な脱脂工程を提供すること。【解決手段】 内部電極層用ペースト材料を印刷したセラミック層用グリーンシートを積層した未焼積層体中の内部電極層用ペースト材料中に含まれるペースト化有機物と,セラミック層用グリーンシート中に含まれるセラミック層用有機物とを除去する脱脂工程を行い,該脱脂工程の後工程として還元処理工程を行うが,未焼積層体の積層方向を法線ベクトルとする断面内において,断面の中心部から上記断面の端部までの最短距離をX(mm),脱脂工程中の150°Cを越える一部の温度領域の昇温速度がV(°C/時間)である昇温プロファイルでペースト化有機物とセラミック層用有機物とを除去する時,X及びVの間に1/V≧X2/45が成立する。
請求項（抜粋）：
セラミック層と内部電極層とを交互に積層したセラミック積層体を製造するにあたり,主として電極材料または該電極材料の出発原料とペースト化有機物とを含む内部電極層用ペースト材料と,主としてセラミック材料及びセラミック層用有機物を含むセラミック層用グリーンシートとを準備し,上記内部電極層用ペースト材料を少なくとも一方の面に印刷した上記セラミック層用グリーンシートを積層した未焼積層体中の内部電極層用ペースト材料中に含まれるペースト化有機物と,セラミック層用グリーンシート中に含まれるセラミック層用有機物とを除去する脱脂工程を行い,該脱脂工程の後工程として還元処理工程を行うセラミック積層体の製造方法において,上記未焼積層体の積層方向を法線ベクトルとする断面内において,上記断面の中心部から上記断面の端部までの最短距離をX(mm)とし,上記脱脂工程中の150°Cを越える一部の温度領域の昇温速度がV(°C/時間)である昇温プロファイルで上記ペースト化有機物と上記セラミック層用有機物とを除去する時,上記X及び上記Vの間に下記の(1)式が成り立つことを特徴とするセラミック積層体の製造方法。1/V≧X2/45 ・・・(1)式
IPC (2件)：
H01G 13/00 391
, H01G 4/30 311
H01G 13/00 391 E
, H01G 4/30 311 D
5E082AA01
, 5E082AB03
, 5E082BB01
, 5E082BC14
, 5E082BC38
, 5E082EE04
, 5E082EE26
, 5E082FF05
, 5E082FG26
, 5E082LL02
, 5E082MM24
, 5E082PP03
, 5E082PP06
, 5E082PP09
