研磨液組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-384510
公開番号（公開出願番号）：特開2002-030273
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】研磨速度が向上し、被研磨物の表面に表面欠陥を生じさせること無く、表面粗さを低減し、且つロールオフを低減し得る研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた被研磨基板の研磨方法及び基板の製造方法を提供すること。【解決手段】水、研磨材、ロールオフ低減剤および中間アルミナを含有してなる研磨液であって、ロールオフ低減剤がOH基又はSH基を有する炭素数2〜20のカルボン酸、炭素数1〜20のモノカルボン酸、炭素数2〜3のジカルボン酸及びこれらの塩からなる群より選ばれる1種以上である研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する被研磨基板の研磨方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

水、研磨材、ロールオフ低減剤および中間アルミナを含有してなる研磨液であって、ロールオフ低減剤がOH基又はSH基を有する炭素数2〜20のカルボン酸、炭素数1〜20のモノカルボン酸、炭素数2〜3のジカルボン酸及びこれらの塩からなる群より選ばれる1種以上である研磨液組成物。

IPC (5件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , B24B 57/02 , G11B 5/84

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , B24B 57/02 , G11B 5/84 A

Fターム (9件)：

3C047GG00 , 3C058AA07 , 3C058AC04 , 3C058DA17 , 5D112AA02 , 5D112AA24 , 5D112BA06 , 5D112GA14 , 5D112JJ01

引用特許：

審査官引用 (1件)

研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-384456 出願人：花王株式会社

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