特許
J-GLOBAL ID:200903077097694808

光学的手段による薄膜測定方法及び装置並びに成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 逢坂 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-330308
公開番号(公開出願番号):特開平11-162954
出願日: 1997年12月01日
公開日(公表日): 1999年06月18日
要約:
【要約】【課題】成膜工程時に、成膜される薄膜の屈折率n、消衰係数k及び物理膜厚dを同時に測定する。【解決手段】成膜工程に供された測定用基板2′の表面に、同一波長で且つ入射角度の異なる3本の光ビームを入射させ、それらの反射光を夫々検出して、夫々の反射光における反射率を測定する。得られた3つの反射率の値を用いて連立方程式を解き、薄膜のn、k及びdを同時に求める。反射光の光路に偏光ビームスプリッターを設け、例えば、1つの反射光を2つの偏光成分に分離して夫々を検出することにより、検出光の数を増やし、精度を上げることもできる。
請求項(抜粋):
成膜工程中の試料表面に、互いに入射角度の異なる少なくとも2つの光を入射させ、それらの反射光及び/又は透過光から、反射若しくは出射角度の異なる又は偏光状態の異なる少なくとも3種の光成分における反射率及び/又は透過率を測定し、その測定結果から、前記試料表面に成膜された薄膜の屈折率、消衰係数及び物理膜厚を夫々求めることを特徴とする、薄膜測定方法。
IPC (5件):
H01L 21/31 ,  G01B 11/06 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/41 ,  H01L 21/66
FI (5件):
H01L 21/31 B ,  G01B 11/06 Z ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/41 Z ,  H01L 21/66 P

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