特許
J-GLOBAL ID：200903077098815420
カラーフィルターのパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-269813
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118222
出願日： 1992年10月08日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】本発明は、高精細、高品質のカラーフィルターパターンを形成する方法を提供することを目的としている。【構成】透明基板101上に形成したカーボンブラックインキ層102をエキシマレザー光を照射してブラックマトリックスパターン105形成し、その上に凹版オフセット印刷法によってR・G・Bパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
透明基板上にブラック層を形成する工程と、前記ブラック層にエキシマレーザー光を用いてブラックマトリックスパターンを形成する工程からなるカラーフィルターのパターン形成方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
