特許
J-GLOBAL ID：200903077102942114
軟磁性フエライト薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-308160
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144657
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】従来のCVD法より、膜質が良く、比較的良好な磁気特性を有する軟磁性フェライト薄膜の製造方法を提供する。【構成】従来のCVD法の基板4にバイブレータ2、ホーン3を用いて直接超音波で振動をかけることにより、膜質が良く、バルクなみの磁気特性をもつ、薄膜5μm以上の軟磁性フェライト薄膜を作製する。
請求項（抜粋）：
亜鉛を含む有機金属化合物、マンガンを含む有機金属化合物、ニッケルを含む有機金属化合物のうち少なくとも一種の有機金属化合物の蒸気と、鉄を含む有機金属化合物の蒸気と、酸素との混合ガスを、超音波で直接振動させた基板表面に接触させて化学蒸着することを特徴とする軟磁性フェライト薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
H01F 41/22
, C23C 16/40
, H01F 10/20
