特許
J-GLOBAL ID：200903077106553686
均一細孔分布を有するシリカ系非晶質材料
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-322446
公開番号（公開出願番号）：特開2000-154017
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：
【要約】【課題】 機械的強度が大きく、かつ比表面積も大きなシリカ系非晶質材料を提供すること及びその再現性の良い製造方法を提供すること。【解決手段】 a)比表面積が60〜400(m2 /g)、b)細孔容積が0.1〜0.4(cc/g)、c)細孔分布が窒素法脱離スペクトルから求めた細孔分布において細孔の80%以上が細孔径30〜50Åの範囲に存在するシリカ系非晶質材料。
請求項（抜粋）：
下記a)〜c)を満足することを特徴とするシリカ系非晶質材料。a)比表面積 ; 60〜400(m2 /g)b)細孔容積 ; 0.1〜0.4(cc/g)c)細孔分布 ; 窒素法脱離スペクトルから求めた細孔分布において細孔の80%以上が細孔径30〜50Åの範囲に存在する。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B 33/146
, G01N 30/48 K
4G072AA03
, 4G072BB05
, 4G072BB13
, 4G072BB15
, 4G072JJ26
, 4G072RR19
, 4G072TT05
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072UU07
, 4G072UU11
, 4G072UU15
, 4G072UU17
