特許

J-GLOBAL ID：200903077117684537

光学基板及びその製造方法並びに光学装置

発明者： 高桑 敦司 ,  西川 尚男
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-287018
公開番号（公開出願番号）：特開2003-098316
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】 簡単な工程で製造できる光学基板及びその製造方法並びに光学装置を提供することにある。【解決手段】 光学基板の製造方法では、第1の領域12において光透過性層前駆体30との親和性があり、第1の領域12を囲む第2の領域14において光透過性層前駆体30との撥液性があるように、原盤10に自己組織化単分子層20を形成する。第2の領域14の撥液性によって、光透過性層前駆体30を第1の領域12内に設ける。

請求項（抜粋）：

(a)第1の領域において光透過性層前駆体との親和性があり、前記第1の領域を囲む第2の領域において前記光透過性層前駆体との撥液性があるように、原盤に自己組織化単分子層を形成し、(b)前記第2の領域の前記撥液性によって、前記光透過性層前駆体を前記第1の領域内に設けることを含む光学基板の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 3/00 ,  B29D 11/00 ,  B29K 83:00

FI (4件)：

G02B 3/00 Z ,  G02B 3/00 A ,  B29D 11/00 ,  B29K 83:00

Fターム (25件)：

4F213AA33 ,  4F213AA44 ,  4F213AD08 ,  4F213AD33 ,  4F213AH75 ,  4F213WA12 ,  4F213WA14 ,  4F213WA32 ,  4F213WA33 ,  4F213WA37 ,  4F213WA38 ,  4F213WA43 ,  4F213WA52 ,  4F213WA58 ,  4F213WA73 ,  4F213WA85 ,  4F213WB01 ,  4F213WB11 ,  4F213WE21 ,  4F213WF01 ,  4F213WF06 ,  4F213WF24 ,  4F213WK05 ,  4F213WW33 ,  4F213WW37