特許
J-GLOBAL ID：200903077118452915
光学素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-317910
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179103
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明は十分な反射率または透過率を有し、且つ、高いレーザー耐久性を有した光学素子を得ることを目的とする。【構成】 基板上に成膜されたフッ素と金属との化合物である膜であって、化合物の組成比が化学量論比または化学量論比よりフッ素が過剰な組成比を有する化合物で成膜された膜を有することとした。
請求項（抜粋）：
基板上に成膜されたフッ素と金属との化合物である膜であって、前記化合物の組成比が化学量論比または化学量論比より前記フッ素が過剰な組成比を有する化合物で成膜された膜を有することを特徴とする光学素子。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, G02B 1/00
, G02B 5/28
