特許
J-GLOBAL ID:200903077126184016
除湿装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮川 貞二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-362613
公開番号(公開出願番号):特開2001-174074
出願日: 1999年12月21日
公開日(公表日): 2001年06月29日
要約:
【要約】【課題】 処理空気として供される空気の条件に拘わらず供給空気の湿度を十分に下げることのできる除湿装置を提供する。【解決手段】 吸着区画103Aと、再生区画103Bと、吸着区画103Aを通過する処理空気A中の水分を吸着し再生区画103Bを通過する再生空気Bで再生されるデシカントを有する水分吸着装置103と、水分吸着装置103よりも下流側に設けられた冷却器210と、冷却器210で冷却された後の処理空気Aを、水分吸着装置103に戻すバイパス経路113とを備え、吸着区画103Aは、回転の上流側に位置する第1の吸着区画103A1と、回転の下流側に位置する第2の吸着区画103A2とに分割されており、バイパス経路113を通る処理空気Aは、第1の吸着区画103A1または第2の吸着区画103A2のいずれかを通過する。
請求項(抜粋):
処理空気が通過する吸着区画と;再生空気が通過する再生区画と;前記吸着区画を通過する処理空気中の水分を吸着し、前記再生区画を通過する再生空気で再生されるデシカントを有する水分吸着装置と;前記水分吸着装置に対して前記処理空気の流れの下流側に設けられ、前記デシカントにより水分を吸着された処理空気を冷却する冷却器と;前記冷却器で冷却された後の処理空気を、該冷却された後の処理空気を供給する空間をバイパスして前記水分吸着装置に戻すバイパス経路とを備え;前記吸着区画は、少なくとも、前記水分吸着装置の回転の上流側に位置する第1の吸着区画と、前記水分吸着装置の回転の下流側に位置する第2の吸着区画とに分割されており、前記バイパス経路を通る処理空気は、前記第1の吸着区画または前記第2の吸着区画のいずれかを通過するように構成された;除湿装置。
IPC (3件):
F25B 1/00 303
, B01D 53/26 101
, F24F 3/147
FI (3件):
F25B 1/00 303
, B01D 53/26 101 B
, F24F 3/147
Fターム (19件):
3L053BC03
, 3L053BC04
, 3L053BC08
, 3L053BC09
, 4D052AA08
, 4D052CB01
, 4D052DA01
, 4D052DA08
, 4D052DB01
, 4D052DB04
, 4D052FA04
, 4D052FA06
, 4D052GA01
, 4D052GA03
, 4D052GB01
, 4D052GB03
, 4D052HA03
, 4D052HB02
, 4D052HB06
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