特許

J-GLOBAL ID：200903077131776690

特殊なポリエステルを用いたレンズレット配列の製造のためのパターン転写方法

発明者： ダグラス アール ロベロ ,  ジョゼフ エフ レヴェリ ,  ジェフリー アイ ヒルシュ
出願人/特許権者： イーストマン コダック カンパニー
代理人 (1件)： 伊東 忠彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-194754
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152503
出願日： 1996年07月24日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 基板上又は基板上の層上に繰り返しユニットを部分的に含む透明なポリエステルレンズレット形成層を設けることを含む光を集め、電子画像器の光感応性素子上にそれを合焦するレンズレットを製造する方法。【解決手段】 a) 下記の構造を有するレンズレット形成層を設け、ここでnは2又はそれ以上;XはH,CH3 ,Br,Clからなる群から選択され;Zは、なし、O、S,CH2 ,C=O,SO,SO2 ,CH-CH3 ,CH3-C-CH3 ,CF3 -C-CF3 ,CH3 -C-CH2 CH3 ,からなる群から選択され;b) 透明なレンズレット形成層上に薄いエッチストップ層を形成し、マスクを形成するようパターン化し;c) レンズレット形成層を異方性プラズマエッチングし;d) マスクを除去し;e) 透明レンズレットを形成するようにパターン化された透明層を熱的に再流動化する。

請求項（抜粋）：

a) 基板上又は基板上の層上に下記の構造を有する繰り返しユニットを部分的に含む透明なポリエステルレンズレット形成層を設け、【化1】ここでnは2又はそれ以上;XはH,CH3 ,Br,Clからなる群から選択され;Zは、なし、O、S,CH2 ,C=O,SO,SO2 ,CH-CH3 ,CH3-C-CH3 ,CF3 -C-CF3 ,CH3 -C-CH2 CH3 ,【化2】からなる群から選択され;b) 透明なレンズレット形成層上に薄いエッチストップ層を形成し、パターンが形成されたレンズレットに対応するようにマスクを形成するようエッチストップ層をパターン化し;c) パターンに従って透明なレンズレット形成層を異方性プラズマエッチングし;d) 薄いエッチストップマスクを除去し;e) 透明レンズレットを形成するようにパターン化された透明層を熱的に再流動化する各段階からなり、光を集め電子画像器の光感応性素子上にそれを合焦するレンズレットを製造する方法。

IPC (6件)：

G02B 3/00 ,  B29D 11/00 ,  C09D167/02 PLD ,  G02B 1/04 ,  H01L 31/10 ,  B29K 67:00

FI (5件)：

G02B 3/00 A ,  B29D 11/00 ,  C09D167/02 PLD ,  G02B 1/04 ,  H01L 31/10 Z