特許
J-GLOBAL ID：200903077165370803
結像位置検出装置及び半導体デバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110483
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284415
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】テスト露光による結像面の位置及び形状と十分に一致した測定結果を得ることができる結像位置検出装置を提供する。【解決手段】レチクル9のパターンの投影光学系11に関する共役面に基準パターン24aを配置し、基準パターン24aを投影光学系11とは反対側から照明し、基準パターンの光透過域を透過しレチクルパターンで反射し基準パターンの光透過域に戻った光束の光量を測定し、基準パターンを光軸方向の複数の高さに移動して各高さにおける光量を測定し、光軸方向の光量分布に基づいてレチクルパターンの投影光学系による像のベストフォーカス高さを求める結像位置検出装置において、光軸方向の光量分布に基づいてベストフォーカス高さを求めるに際して、光量分布の移動平均を取る処理を含むことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
レチクル上に形成されたパターンの像を形成する投影光学系と;該投影光学系に関して前記レチクルと共役な位置に配置された基準パターンと;該基準パターンを照明する照明系と;該照明系により照明された基準パターン像を前記投影光学系を介して前記レチクルのパターン面に投影し、前記基準パターンの投影像からの反射光を前記投影光学系及び前記基準パターンを介して受光して、該受光された光束の光量を検出する検出系と;前記基準パターンを前記投影光学系の光軸方向に沿って移動させる移動装置と;該移動装置を介して前記基準パターンを前記投影光学系の光軸方向の複数の位置に沿って移動させながら、前記検出系にて検出される各位置における前記光量に基づいて、前記光軸方向の光量分布を求め、前記光軸方向の光量分布に基づいて前記レチクルパターンの前記投影光学系による像のベストフォーカス位置を求める処理系とを有する結像位置検出装置において、前記光軸方向の光量分布に基づいて前記レチクルパターンの前記投影光学系による像のベストフォーカス位置を求めるに際して、前記処理系は、前記投影光学系に残存する収差による計測誤差成分を補正するために、前記光量分布の形状を所望の形状に変形する補正処理部を有することを特徴とする結像位置検出装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 516 A
