特許
J-GLOBAL ID:200903077188432300

レーザーガス精製装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小山田 光夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-077164
公開番号(公開出願番号):特開平7-263777
出願日: 1991年03月18日
公開日(公表日): 1995年10月13日
要約:
【要約】【目的】 気体レーザー放電室のレーザーガスを精製装置へ導いて精製する。【構成】 液体窒素を使用してレーザーガスから不純物を凍結除去するエキシマレーザーおよびF2 レーザーのレーザーガス精製装置において、上記凍結除去の温度は液体窒素12の液面14上方の圧力によって調節するようにした。
請求項(抜粋):
液体窒素を使用してレーザーガスから不純物を凍結除去し、およびこの凍結温度を調節自在とした、特にエキシマおよびF2 レーザー用のレーザーガス精製装置において、上記凍結除去の温度は、上記液体窒素(12)の液面(14)上方の圧力によって調節することを特徴とするレーザーガス精製装置。
IPC (3件):
H01S 3/03 ,  B01D 8/00 ,  H01S 3/225
FI (2件):
H01S 3/03 Z ,  H01S 3/223 E
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平2-101274

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