特許

J-GLOBAL ID：200903077204252546

高周波用積層バルーントランス

発明者： 武田 剛志 ,  中村 秀幸 ,  但井 裕之
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071840
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260146
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【目的】 トランスの結合係数が高く、生産性の良い積層型の高周波バルーントランスを得る。【構成】 コイル用の導体パターンが形成されたセラミック絶縁層を積層してなる高周波用バルーントランスにおいて、一つのアンバランス側コイルと二つのバランス側コイルを有し、前記アンバランス側コイルは第1のセラミック絶縁層上に形成され、前記二つのバランス側コイルのそれぞれは、前記第1のセラミック絶縁層の上下に分れて形成されている。

請求項（抜粋）：

コイル用の導体パターンが形成されたセラミック絶縁層を積層してなる高周波用バルーントランスにおいて、一つのアンバランス側コイルと二つのバランス側コイルを有し、前記アンバランス側コイルは第1のセラミック絶縁層上に形成され、前記二つのバランス側コイルのそれぞれは、前記第1のセラミック絶縁層の上下に分れて形成されていることを特徴とする高周波用積層バルーントランス。

IPC (2件)：

H01F 19/06 ,  H01F 17/00

FI (2件)：

H01F 19/06 ,  H01F 17/00 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 高周波用積層トランス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-070087   出願人：日立フェライト株式会社
• 積層型高周波トランス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-175545   出願人：株式会社村田製作所
• 特開平4-306004