特許
J-GLOBAL ID:200903077209844069

半導体装置の製造方法並びに半導体製造装置及びリードフレーム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 寒川 誠一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-304909
公開番号(公開出願番号):特開平5-144988
出願日: 1991年11月20日
公開日(公表日): 1993年06月11日
要約:
【要約】【目的】 半導体装置の製造方法、詳しくは、リードフレームに半導体チップを搭載して樹脂封止をなすプラスチックICの製造方法並びにその製造に使用される半導体製造装置及びリードフレームに関し、プラスチックICのリードの平坦性と半田ぬれ性とを向上する製造方法を提供することを目的とする。【構成】 リード2の先端部21が連結部材4をもって相互に連結されているリードフレームのステージ上に半導体チップを搭載して樹脂封止した後、連結部材4を切断除去してリード2を曲げ成形する工程を有する半導体装置の製造方法において、連結部材4を切断除去する際に、リードの先端部21を細くカットし、リード2を曲げ成形する際に、リードの先端部21をプレスして薄くするか、または、連結部材4を切断除去するのに先立ってリードの先端部21を細くカットしてメッキを施すように構成する。
請求項(抜粋):
リード(2)の先端部(21)が連結部材(4)をもって相互に連結されてなるリードフレームのステージ上に半導体チップを搭載して樹脂封止した後、前記連結部材(4)を切断除去して前記リード(2)を曲げ成形する工程を有する半導体装置の製造方法において、前記連結部材(4)を切断除去する際に、前記リード(2)の先端部(21)を細くカットし、前記リード(2)を曲げ成形する際に、前記リード(2)の先端部(21)をプレスして薄くする工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
IPC (2件):
H01L 23/50 ,  B21D 28/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-254456
  • 特開平3-104148

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