特許

J-GLOBAL ID：200903077214079168

陰イオン性界面活性剤及びそれを含む洗浄剤組成物

発明者： 小平 勇次 ,  太垣 成実 ,  矢名葉 滋 ,  涌井 二男
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-041933
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214362
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 界面活性剤性能および低温安定性にすぐれた陰イオン性界面活性剤及びそれを含むマイルド性にすぐれた洗浄剤組成物を提供する。【構成】 式(I) R1-O-(CH2CH2O)nCH2COOM (1)(式中、R1は平均炭素数が8〜20の高級アルキル基またはアルケニル基であり、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはアルカノールアミンであり、nは0又は1以上の整数である)で表わされるエーテルカルボン酸塩の混合物からなり、該混合物を構成するエーテルカルボン酸塩に含まれるエチレンオキサイドの付加モル数nの平均値n(av)が1〜10の範囲にあり、かつエチレンオキサイドの付加モル数nが0のエーテルカルボン酸塩成分の含有率が10重量%以下であり、さらに、該混合物が特定のエーテルカルボン酸塩の重量分布を有する陰イオン性界面活性剤及びそれを含む洗浄剤組成物。

請求項（抜粋）：

一般式 R1-O-(CH2CH2O)nCH2COOM (1)(式中、R1は平均炭素数が8〜20の高級アルキル基またはアルケニル基であり、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウムまたはアルカノールアミンであり、nは0又は1以上の整数である)で表わされるエーテルカルボン酸塩の混合物からなり、該混合物を構成するエーテルカルボン酸塩に含まれるエチレンオキサイドの付加モル数nの平均値n(av)が1〜10の範囲にあり、かつエチレンオキサイドの付加モル数nが0のエーテルカルボン酸塩成分の含有率が10重量%以下であり、さらに、該混合物は、次の数式【数1】(式中、Yiはエチレンオキサイドの付加モル数がiモルのエーテルカルボン酸塩の重量%を示し、Pは混合物中の最も含有率の高いエーテルカルボン酸塩のエチレンオキサイド付加モル数を示す)を満足するエーテルカルボン酸塩の重量分布を有することを特徴とする陰イオン性界面活性剤。

IPC (3件)：

C11D 1/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-120686