特許
J-GLOBAL ID：200903077215672008
位置検出装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-228706
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086135
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置において、移動しているウエハの露光面のフォーカス位置を正確に検出してサーボ系にフィードバックする。【構成】 露光領域16内のウエハ15上の計測点PA2、及び走査方向(X方向)に手前側の計測点PB2でのフォーカス位置をAFセンサー25A2及び25B2により検出し、増幅器32A2及び32B2からのフォーカス信号SA2及びSB2に重み係数K1及びK2を掛けて加算器37D2で加算して基準となるフォーカス信号SD2を得る。フォーカス信号SD2をウエハ駆動系24に供給し、ウエハ駆動系24が3個の支点18A〜18Cの伸縮量を調整する。
請求項（抜粋）：
所定形状の照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを所定の方向に走査するマスクステージと、該マスクステージに同期して感光性の基板を所定の方向に走査する基板ステージと、該基板ステージに設けられ前記基板の露光面の前記マスク方向の高さに応じて前記基板の高さを調整する高さ調整手段とを有し、前記基板の高さを調整しつつ前記マスクのパターンを逐次前記基板上に露光する走査型の露光装置に設けられ、前記高さ調整手段に対して供給するための前記基板の露光面の高さに対応する信号を検出する装置において、前記マスクのパターンの露光領域内の計測点及び該露光領域に対して走査方向に手前側の領域内の計測点よりなる複数の計測点で前記基板の露光面の高さに対応する信号を検出する高さ検出手段と、該高さ検出手段により検出された前記複数の計測点の高さに対応する信号を、前記基板ステージの移動速度、前記マスクのパターンの露光領域の走査方向の幅、及び前記複数の計測点の配置より定まる重み係数を付けて加算することにより、前記マスクのパターンの露光領域内の所定の基準点での前記基板の露光面の高さに対応する信号を求める高さ演算手段と、を有し、該高さ演算手段で求められた高さに対応する信号を前記高さ調整手段に供給することを特徴とする位置検出装置。
IPC (2件)：
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