特許
J-GLOBAL ID：200903077225082870

ポリエチレン製微多孔膜および製造方法

発明者：
宝珠山 和泉

宝珠山 和泉 について

, 
飯谷 和也

飯谷 和也 について


出願人/特許権者：
旭化成工業株式会社

旭化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-226442
公開番号（公開出願番号）：特開平10-067870
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 低いヒューズ温度と耐熱性を両立し、さらに高強度が付与された、電池用セパレーターとして用いた場合の電池安全性の点において優れたポリエチレン製微多孔膜とその製造方法を提供する。【解決手段】 電離性放射線による架橋処理を施す工程を含むポリエチレン製微多孔膜の製造方法において、ラジカル種を減衰させる工程を導入することにより、気孔率20〜80%、透過法による平均孔径0.1μm以下、ゲル分率1%以上、ラジカル濃度1018スピン/g以下、収縮残存率15%以上のポリエチレン製微多孔膜を製造する。
請求項（抜粋）：
気孔率20〜80%、透過法による平均孔径0.1μm以下、ゲル分率1%以上、ラジカル濃度1018スピン/g以下、収縮残存率15%以上であることを特徴とするポリエチレン製微多孔膜。
IPC (4件)：
C08J 7/00 305 ,  C08J 9/36 CES ,  H01M 2/16 ,  C08L 23:04
FI (3件)：
C08J 7/00 305 ,  C08J 9/36 CES ,  H01M 2/16 P
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 特開平3-274661
  • 特開平3-274661
  • 特開平1-071734
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM