流体の処理システム及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青麻昌二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-519423
公開番号（公開出願番号）：特表平8-509905
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】流体の処理システムは被処理流体が通過し照射される処理区域内の照射区域に設置された1つ又はそれ以上の照射源を含む。照射区域は被処理流体を少なくとも1つの照射源アセンブリーから予め定められた最大距離内に限定する閉断面を持つ。好ましくは、照射区域は流体の流れ方向に直角な縮小した断面積を有し、かくして流体の流れ速度は照射区域で増加する。これは流体が比較的遅い速度で照射区域に入り、高速で照射区域を横切り、再び比較的低速となって、システムを通じての水柱へッドの損失が最小限になるようにする。処理区域に入る流体は、照射区域に入るに先立って、断面積が減少する人口移行領域に入り、処理区域を出る流体は断面積が増加する出口移行領域を通過する。各移行領域は流体流速が増加及び減少する際の水柱ヘッド損失を減らすようにデザインされている。照射区域では、照射源は補修のための接近性が改良されるように配置された照射モジュール上に搭載される。照射モジュールには、照射源が照射区域中にあるままで照射源を汚損している物質を除去するように操作できる洗浄アセンブリーを設けても良い。

請求項（抜粋）：

流体入口、流体出口、及び流体入口と流体出口の間に設置された照射区域を含み、その照射区域は(i)少なくとも1つの照射源を含み且つ(ii)被処理流体を少なくとも1つの照射源アセンブリーから予め定められた最大距離内に限定する閉断面を持つ、重力で供給される流体の処理システム。

IPC (3件)：

B01J 19/12 , C02F 1/32 , B08B 3/02

FI (3件)：

B01J 19/12 D , C02F 1/32 , B08B 3/02 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-190887
特開平4-190887
特開平4-190887

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