露光装置、露光方法、及び素子製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349912
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133589
出願日： 1988年12月21日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】より微細なパターンを基板上に転写可能にする。【解決手段】露光用のエネルギー線の波長を変更したときに、その波長変更によってパターン像の投影倍率に狂いが生じないように、投影光学系の一部のレンズを光軸方向に移動する。

請求項（抜粋）：

エネルギー線をマスクに照射して、該マスクのパターンの像を投影光学系を介して基板上に投影することにより、前記基板を露光する露光装置において、前記エネルギー線を射出するとともに、前記エネルギー線の波長を設定するために粗調機構と微調機構とを有するエネルギー線源と、該エネルギー線源から射出されるエネルギー線の波長変更により前記基板上に投影されるパターン像の投影倍率が狂わないように前記投影光学系の一部のレンズを光軸方向に動かす倍率調整手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 514 A

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