特許

J-GLOBAL ID：200903077240380453

表面改質シリカ粉末とそのシリカスラリー

発明者： 森井 俊夫 ,  室田 正道 ,  城野 博州
出願人/特許権者： 日本アエロジル株式会社
代理人 (1件)： 千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400072
公開番号（公開出願番号）：特開2003-201112
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月15日
要約：

【要約】【課題】 標準的なpHおよびシリカ濃度において、粘性が低く、かつ粘度の経時安定性に優れたシリカスラリーを得ることができるシリカ粉末とそのスラリーを提供する。【解決手段】BET比表面積40〜150m2/gのシリカ粉末をアミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理し、全窒素量を0.1〜0.5wt%に調整することによって、該シリカ粉末からなるスラリーの基準pHおよび基準シリカ濃度下において50mPa s以下の粘性を与えることを特徴とする表面改質シリカ粉末。

請求項（抜粋）：

BET比表面積40〜150m2/gのシリカ粉末をアミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理し、全窒素量を0.1〜0.5wt%に調整することによって、該シリカ粉末からなるスラリーの基準pHおよび基準シリカ濃度下において50mPa s以下の粘性を与えることを特徴とする表面改質シリカ粉末。

IPC (5件)：

C01B 33/149 ,  C09C 1/28 ,  C09C 3/12 ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/00 103

FI (5件)：

C01B 33/149 ,  C09C 1/28 ,  C09C 3/12 ,  C09K 3/00 R ,  C09K 3/00 103 F

Fターム (14件)：

4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072EE01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072MM01 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR12 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037EE02 ,  4J037EE28 ,  4J037EE43