特許
J-GLOBAL ID：200903077253010825

除染方法及び除染装置

発明者：
川崎 康司

川崎 康司 について


出願人/特許権者：
株式会社エアレックス

株式会社エアレックス について


代理人 (1件)： 松浦 喜多男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-292966
公開番号（公開出願番号）：特開2005-058495
出願日： 2003年08月13日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 過酸化水素ガス等の除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を形成する際にあって、時間経過と共に除染効果が低下しない除染方法、及び除染装置を提供することを目的とする。【解決手段】 過酸化水素ガスを発生させて、チャンバー2内に投入し、投入した過酸化水素ガスをチャンバー2内で凝縮させて、チャンバー2の内壁、またはチャンバー2内にある除染対象物3の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する。そして、温度調節装置10がチャンバー2の室温を上昇させて、一旦形成された凝縮液層を一部蒸発させる。そしてさらに、蒸発させた後、温度調節手段10が室温を下げて、過酸化水素ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入し、投入した除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成することにより、密閉室または除染対象物を除染する除染方法において、 一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる蒸発工程と、 蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程とを備えたことを特徴とする除染方法。
IPC (3件)：
A61L2/20 ,  A61L9/02 ,  F24F3/16
FI (4件)：
A61L2/20 A ,  A61L2/20 G ,  A61L9/02 ,  F24F3/16
Fターム (18件)：
3L053BD05 ,  4C058AA23 ,  4C058CC04 ,  4C058DD01 ,  4C058DD02 ,  4C058DD04 ,  4C058DD11 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ12 ,  4C058JJ21 ,  4C080AA03 ,  4C080BB05 ,  4C080HH02 ,  4C080HH03 ,  4C080KK04 ,  4C080MM01 ,  4C080QQ12 ,  4C080QQ20
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特公昭61-4543号公報
審査官引用 (6件)
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