特許
J-GLOBAL ID:200903077256304447

導電性高屈折率膜及び帯電防止低反射膜及びこれらの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-296215
公開番号(公開出願番号):特開平5-107403
出願日: 1991年10月16日
公開日(公表日): 1993年04月30日
要約:
【要約】【構成】導電性微粒子(SnO2 :Sb,TiOx ,TiO2 :Nb,ITO等)と、TiCl4 を含む液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により導電性高屈折率膜を形成する。次いで、この膜上に、MgF2 やSiO2 等の低屈折率膜を形成して、帯電防止低反射膜を製造する。【効果】高温に加熱することなく、強固で導電性の高い高屈折率膜を形成できる。
請求項(抜粋):
導電性微粒子と、Ti塩を含有する液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により導電性高屈折率膜を製造することを特徴とする導電性高屈折率膜の製造方法。
IPC (2件):
G02B 1/10 ,  H01J 29/88

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