特許
J-GLOBAL ID:200903077257214719

流動層の粒状固体の熱処理方法およびプラント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-561179
公開番号(公開出願番号):特表2006-512554
出願日: 2003年11月24日
公開日(公表日): 2006年04月13日
要約:
この発明は、少なくとも一つの導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)にマイクロ波を放射する、流動層炉(1、1a、38)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法、および対応するプラントに関する。導波管(5、46)の堆積物を避けるために、ガス流を、同じ導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)に供給する。
請求項(抜粋):
少なくとも一つの導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)にマイクロ波を放射する、該流動層炉(1、1a、38)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法において、ガス流を、前記同じ導波管(5、46)を通して前記流動層炉(1、1a、38)に供給することを特徴とする熱処理方法。
IPC (7件):
F27B 15/10 ,  B01J 8/26 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  F27B 15/14 ,  F27B 15/16 ,  F27B 15/18
FI (7件):
F27B15/10 ,  B01J8/26 ,  B01J19/00 301Z ,  B01J19/12 A ,  F27B15/14 ,  F27B15/16 ,  F27B15/18
Fターム (32件):
4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BA05 ,  4G070BB33 ,  4G070CA06 ,  4G070CA09 ,  4G070CA25 ,  4G070CB02 ,  4G070CB18 ,  4G070CB25 ,  4G070CC01 ,  4G070CC20 ,  4G075AA22 ,  4G075AA45 ,  4G075AA63 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA26 ,  4G075CA63 ,  4G075CA66 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075FC06 ,  4K046HA03 ,  4K046JC01 ,  4K046JD03 ,  4K046JD10 ,  4K046LA02 ,  4K046LA04

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