特許
J-GLOBAL ID:200903077257214719
流動層の粒状固体の熱処理方法およびプラント
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-561179
公開番号(公開出願番号):特表2006-512554
出願日: 2003年11月24日
公開日(公表日): 2006年04月13日
要約:
この発明は、少なくとも一つの導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)にマイクロ波を放射する、流動層炉(1、1a、38)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法、および対応するプラントに関する。導波管(5、46)の堆積物を避けるために、ガス流を、同じ導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)に供給する。
請求項(抜粋):
少なくとも一つの導波管(5、46)を通して流動層炉(1、1a、38)にマイクロ波を放射する、該流動層炉(1、1a、38)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法において、ガス流を、前記同じ導波管(5、46)を通して前記流動層炉(1、1a、38)に供給することを特徴とする熱処理方法。
IPC (7件):
F27B 15/10
, B01J 8/26
, B01J 19/00
, B01J 19/12
, F27B 15/14
, F27B 15/16
, F27B 15/18
FI (7件):
F27B15/10
, B01J8/26
, B01J19/00 301Z
, B01J19/12 A
, F27B15/14
, F27B15/16
, F27B15/18
Fターム (32件):
4G070AA01
, 4G070AB06
, 4G070BA05
, 4G070BB33
, 4G070CA06
, 4G070CA09
, 4G070CA25
, 4G070CB02
, 4G070CB18
, 4G070CB25
, 4G070CC01
, 4G070CC20
, 4G075AA22
, 4G075AA45
, 4G075AA63
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075CA26
, 4G075CA63
, 4G075CA66
, 4G075DA02
, 4G075EA06
, 4G075EB01
, 4G075FC06
, 4K046HA03
, 4K046JC01
, 4K046JD03
, 4K046JD10
, 4K046LA02
, 4K046LA04
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