特許

J-GLOBAL ID：200903077267152819

マイクロ波プラズマ処理装置

発明者： 古瀬 宗雄 ,  渡辺 成一 ,  小川 芳文
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-231273
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086268
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】マイクロ波プラズマ処理装置において、エッチング処理室にガス流量校正容器を取付け、オリフィス法によってガス流量を測定できるようにし、マスフローコントローラの指示値を短時間で校正できるようにしたものである。【構成】マイクロ波プラズマ処理装置のエッチング処理室1に、オリフィス10とその上流および下流に真空計aおよびbを取り付けたガス流量校正容器7を取リ付け、真空排気配管a3のコンダクタンスと、真空排気配管b5およびコンダクタンスバルブ6とのコンダクタンスから、エッチング処理室1に流入するガス流量を校正することが出来るような構成とした。【効果】マスフローコントローラの指示値の校正を短時間に行なうことが出来る。

請求項（抜粋）：

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と、減圧可能な処理室と、処理室にガスを供給するガス供給装置と、真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、マイクロ波を導入し、プラズマを発生させるエッチング処理室にマスフローコントローラを介して導入するガス流量の構成をするガス流量校正装置を設置したことを特徴とする、マイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B