特許
J-GLOBAL ID：200903077285712490
アミノ酸薄膜の形成方法及び薄膜を用いた化学センサプローブ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-144425
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330300
出願日： 1993年05月25日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 親水性の表面物性を有する付着性の高いアミノ酸薄膜の形成方法、アミノ酸薄膜を有する高感度で幅広い対象範囲を有する化学センサプローブを提供する。【構成】 スパッタターゲットを高周波放電中でスパッタリングすることにより薄膜形成を行う高周波スパッタ法において、アミノ酸溶液を板状基板上に塗布し溶媒を蒸発させたものをスパッタターゲットとするアミノ酸薄膜の形成方法。水晶振動子上にアミノ酸薄膜が形成されている化学センサプローブ。
請求項（抜粋）：
スパッタターゲットを高周波放電中でスパッタリングすることにより薄膜形成を行う高周波スパッタ法において、アミノ酸溶液を板状基板上に塗布し溶媒を蒸発させたものをスパッタターゲットとすることを特徴とする薄膜の形成方法。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/40
, G01N 5/02
