特許
J-GLOBAL ID：200903077286609307
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200234
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037851
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 フッ酸と純水との混合処理液の混合組成比の再現精度、及び均一性が高くなるようにする。【構成】 洗浄を施す半導体ウエハ3を内包し、フッ酸を純水で希釈した処理液が入れられる処理槽1と、この処理槽1に送り込まれた純水とフッ酸が均一に混合するように、処理液を循環させるための循環ポンプ7及びフィルター8等を有する循環系21と、循環中の処理液の濃度を計測し、また、その変動を感知する、フッ素イオン濃度計10と、このフッ素イオン濃度計10の計測に基づいて、所定量の純水及びフッ酸を処理槽1に送り込むため、純水及びフッ酸の流量を制御する流量制御器11とを有する。
請求項（抜粋）：
フッ酸を純水で希釈した処理液により半導体ウエハを洗浄する洗浄装置において、洗浄を施す半導体ウエハを内包し、前記処理液が入れられる処理槽と、該処理槽に送り込まれた前記処理液を循環させるための循環系と、該循環系を循環中の前記処理液のフッ素イオン濃度を計測するフッ素イオン濃度計と、該フッ素イオン濃度計の計測に従って、前記処理槽に送り込む前記純水及びフッ酸の流量を制御する流量制御器と、を有することを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
