特許

J-GLOBAL ID：200903077287002007

高分子電解質の製造方法

発明者： 稲垣 靖史 ,  野口 勉 ,  渡辺 春夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-177815
公開番号（公開出願番号）：特開平10-017616
出願日： 1996年07月08日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：

【要約】【課題】 ポリスチレン系樹脂から、ハロゲン化合物を含有しない高分子電解質を製造する方法を提供する。【解決手段】 ポリスチレン系樹脂を、脂環式化合物よりなる溶媒に溶解もしくは分散させた状態でスルホン化し、高分子電解質へと改質する。脂環式化合物としては、シクロヘキサンやその誘導体等、シクロパラフィンを用いて好適である。なお、スルホン化を行った後、使用された溶媒を回収し、この回収された溶媒をスルホン化に再利用してもよい。

請求項（抜粋）：

ポリスチレン系樹脂を、脂環式化合物よりなる溶媒に溶解もしくは分散させた状態でスルホン化することを特徴とする高分子電解質の製造方法。

IPC (3件)：

C08F 8/36 MHR ,  C08F 12/08 ,  H01B 1/06

FI (3件)：

C08F 8/36 MHR ,  C08F 12/08 ,  H01B 1/06 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-268704